Apa Kabar DuniaTernyata Processor itu terbuat dari “Pasir”

Pasir, seperempat bagiannya
terbentuk dari silikon, yakni unsur kimia yang paling berlimpah di muka bumi
ini setelah oksigen. Pasir (terutama quartz), mempunyai persentase silikon yang
tinggi di dalam bentuk Silicon Dioxide (SiO2) dan pasir merupakan bahan pokok
untuk memproduksi semiconductor.

Setelah memperoleh mentahan dari
pasir dan memisahkan silikonnya, materiil yang kelebihan dibuang. Lalu, silikon
dimurnikan secara bertahap hingga mencapai kualitas “semiconductor
manufacturing quality”, atau biasa disebut “electronic grade silicon”.
Pemurnian ini menghasilkan
sesuatu yang sangat dahsyat dimana “electronic grade silicon” hanya boleh
memiliki satu “alien atom” di tiap satu milyar atom silikon.
Setelah tahap pemurnian silikon
selesai, silikon memasuki fase peleburan. Dari gambar di atas, kita bisa
melihat bagaimana kristal yang berukuran besar muncul dari silikon yang
dileburkan. Hasilnya adalah kristal tunggal yang disebut “Ingot”.

Kristal tunggal “Ingot” ini
terbentuk dari “electronic grade silicon”. Besar satu buah “Ingot” kira-kira
100 Kilogram atau 220 pounds, dan memiliki tingkat kemurnian silikon hingga
99,9999 persen.

Setelah itu, “Ingot” memasuki
tahap pengirisan. “Ingot” di iris tipis hingga menghasilkan “silicon discs”,
yang disebut dengan “Wafers”. Beberapa “Ingot” dapat berdiri hingga 5 kaki.
“Ingot” juga memiliki ukuran diameter yang berbeda tergantung seberapa besar
ukuran “Wafers” yang diperlukan. CPU jaman sekarang biasanya membutuhkan
“Wafers” dengan ukuran 300 mm.

Setelah diiris, “Wafers” dipoles
hingga benar-benar mulus sempurna, permukaannya menjadi seperti cermin yang
sangat-sangat halus. Kenyataannya, Intel tidak memproduksi sendiri “Ingots” dan
“Wafers”, melainkan Intel membelinya dari perusahaan “third-party”.
Processor Intel dengan teknologi
45mm, menggunakan “Wafers” dengan ukuran 300mm (12 inch), sedangkan saat
pertama kali Intel membuat Chip, Intel menggunakan “Wafers” dengan ukuran 50mm
(2 inch).

Cairan biru seperti yang
terlihat pada gambar di atas, adalah “Photo Resist” seperti yang digunakan pada
“Film” pada fotografi. “Wafers” diputar dalam tahap ini supaya lapisannya dapat
merata halus dan tipis.

Di dalam fase ini, “Photo Resist”
disinari cahaya “Ultra Violet”. Reaksi kimia yang terjadi dalam proses ini
mirip dengan “Film” kamera yang terjadi pada saat kita menekan shutter
(Jepret!).
Daerah paling kuat atau tahan di
“Wafer” menjadi fleksibel dan rapuh akibat efek dari sinar “Ultra Violet”.
Pencahayaan menjadi berhasil dengan menggunakan pelindung yang berfungsi
seperti stensil. Saat disinari sinar “Ultra Violet”, lapisan pelindung membuat
pola sirkuit.
Di dalam pembuatan Processor,
sangat penting dan utama untuk mengulangi proses ini berulang-ulang hingga
lapisan-lapisannya berada di atas lapisan bawahnya, begitu seterusnya.
Lensa di tengah berfungsi untuk
mengecilkan cahaya menjadi sebuah fokus yang berukuran kecil.

Dari gambar di atas, kita dapat
gambaran bagaimana jika satu buah “Transistor” kita lihat dengan mata
telanjang. Transistor berfungsi seperti saklar, mengendalikan aliran arus
listrik di dalam “Chip” komputer. Peneliti Intel telah mengembangkan transistor
menjadi sangat kecil sehingga sekitar 30 juta “Transistor” dapat menancap di
ujung “Pin”.

Setelah disinari sinar “Ultra
Violet”, bidang “Photo Resist” benar-benar hancur lebur. Gambar di atas
menampakan pola “Photo Resist” yang tercipta dari lapisan pelindung. Pola ini
merupakan awal dari “transistors”, “interconnects”, dan hal yang berhubungan dengan
listrik berawal dari sini.

Meskipun bidangnya hancur,
lapisan “Photo Resist” masih melindungi materiil “Wafer” sehingga tidak akan
tersketsa. Bagian yang tidak terlindungi akan disketsa dengan bahan kimia.

Setelah tersketsa, lapisan
“Photo Resist” diangkat dan bentuk yang diinginkan menjadi tampak.

“Photo Resist” kembali digunakan
dan disinari dengan sinar “Ultra Violet”. “Photo Resist” yang tersinari
kemudian dicuci dahulu sebelum melangkah ke tahap selanjutnya, proses pencucian
ini dinamakan “Ion Doping”, proses dimana partikel ion ditabrakan ke “Wafer”,
sehingga sifat kimia silikon dirubah, agar CPU dapat mengkontrol arus listrik.

Melalui proses yang dinamakan
“Ion Implantation” (bagian dari proses Ion Doping) daerah silikon pada “Wafers”
ditembak oleh ion. Ion ditanamkan di silikon supaya merubah daya antar silikon
dengan listrik. Ion didorong ke permukaan “Wafer” dengan kecepatan tinggi.
Medan listrik melajukan ion dengan kecepatan lebih dari 300,000 Km/jam
(sekitar 185,000 mph)
Setelah ion ditanamkan, “Photo
Resist” diangkat, dan materiil yang bewarna hijau pada gambar sekarang sudah
tertanam “Alien Atoms”

Transistor ini sudah hampir
selesai. Tiga lubang telah tersketsa di lapisan isolasi (warna ungu kemerahan)
yang berada di atas transistor. Tiga lubang ini akan diisi dengan tembaga, yang
berfungsi untuk menghubungkan transistor ini dengan transistor lain.

“Wafers” memasuki tahap “copper
sulphate solution” pada tingkat ini. Ion tembaga disimpan ke dalam transistor
melalui proses yang dinamakan “Electroplating”. Ion tembaga berjalan dari
terminal positif (anode) menuju terminal negatif (cathode).



Nah udah mulai ribet. Banyak
lapisan logam dibuat untuk saling menghubungkan bermacam-macam transistors.
Bagaimana rangkaian hubungan ini disambungkan, itu ditentukan oleh teknik
arsitektur dan desain tim yang mengembangkan kemampuan masing-masing processor.
Dimana chip komputer terlihat sangat datar, sebenarnya memiliki lebih dari 20
lapisan untuk membuat sirkuit yang kompleks. Jika kamu melihat dengan kaca pembesar,
kamu akan melihat jaringan bentuk sirkuit yang rumit, dan transistors yang
terlihat futuristik, “Multi-Layered Highway System”.

Ini hanya contoh super kecil
dari “Wafer” yang akan melalui tahap test kemampuan pertama. Di tahapan ini,
sebuah pola test dikirimkan ke tiap-tiap chip, lalu respon dari chip akan
dimonitor dan dibandingkan dengan “The Right Answer”.

Setelah hasil test menjadi
sebuah bagian yang disebut “Dies”. Coba juragan lihat, proses yang bener-bener
ribet tadi ternyata hasilnya kecil doank. Pada gambar paling kiri itu ada 6
kelompok “Wafer”, pada gambar kanannya udah berapa “Wafer” tuh?!?

“Dies” yang lulus test, akan
diikutkan ke tahap selanjutnya yaitu “Packaging”. “Dies” yang tidak lulus,
dibuang dengan percumanya.

Ini adalah gambar satu “Die”,
yang tadinya dipotong pada proses sebelumnya. “Die” pada gambar ini adalah
“Die” dari Intel Core i7 Processor.

Lapisan bawah, “Die”, dan
“Heatspreader” dipasang bersama untuk membentuk “Processor”. Lapisan hijau yang
bawah, digunakan untuk membentuk listrik dan “Mechanical Interface” untuk
Processor supaya dapat berinteraksi dengan sistem PC. “Heatspreader” adalah
“Thermal Interface” dimana solusi pendinginan diterapkan, sehingga Processor
dapat tetap dingin dalam beroperasi.

“Microprocessor” adalah produk
terkompleks di dunia ini. Faktanya, untuk membuatnya memerlukan ratusan
tahap dan yang kita uraikan sebelumnya hanyalah yang penting saja.
Tidak ada komentar:
Posting Komentar